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  • 2009(1)
  • 信息科学与工程...(1)

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1. Cl_2/H_2 ICP刻蚀优化及其在1.55μm DFB激光器制作中的应用

作者:江山;董雷;张瑞康;罗勇;谢世钟;

作者机构:[江山;董雷;张瑞康;罗勇;谢世钟]武汉光迅科技股份有限公司;[江山;董雷;张瑞康;罗勇;谢世钟]山东大学信息科学与工程学院;[江山;董雷;张瑞康;罗勇;谢世钟]清华大学电子工程系

来源:光电子.激光,2009,Issue.05,583-586

资源类型:期刊论文

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