标题:电子束蒸发技术制备ITO薄膜表面形貌研究
作者:徐化勇;沈燕;刘晓燕;王成新;李树强;徐现刚;
作者机构:[徐化勇;沈燕;刘晓燕;王成新;李树强;徐现刚]山东大学晶体材料国家重点实验室;[徐化勇;沈燕;刘晓燕;王成新;李树强;徐现刚]山东华光光电子有限公司 更多
会议名称:第八届中国国际半导体照明论坛(大会/技术分会)
来源:第八届中国国际半导体照明论坛(大会/技术分会)论文集
出版年:2011
关键词:ITO;电子束蒸发技术;表面形貌;三维生长模式
摘要:采用电子束蒸发技术在玻璃衬底上制备了ITO薄膜,通过X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)以及原子力显微镜(AFM)等方法对薄膜进行了测试表征。系统研究了衬底温度,氧气流量,沉积速率以及薄膜厚度对ITO表面形貌的影响。
资源类型:会议论文
原文链接:http://kns.cnki.net/kns/detail/detail.aspx?FileName=MKQM201111002054&DbName=IPFD2015
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