标题:TA2工业纯Ti微弧氧化陶瓷膜生长规律及电容效应
作者:王宏元;朱瑞富;王志刚;吕宇鹏;肖桂勇;朱先俊
作者机构:[王宏元] 山东大学材料科学与工程学院, 材料液固结构演变与加工教育部重点实验室, 济南, 山东 250061, 中国.;[朱瑞富] 山东大学材料科学与工程学院, 材料液固结构 更多
通讯作者地址:[Zhu, R.-F] Key Lab. for Liquid-Solid Structural Evolution and Processing of Materials Ministry of Education, Shandong University, Ji'nan 250061, Chin 更多
来源:功能材料
出版年:2012
卷:43
期:20
页码:2763-2766
关键词:工业纯Ti; 微弧氧化; 陶瓷膜; 生长规律; 电容效应
摘要:对TA2工业纯Ti微弧氧化陶瓷膜的生长规律进行了实验研究,分析了陶瓷膜表面形貌、厚度、相结构等不同生长阶段的实验现象及结果。模拟微弧氧化工艺反应 过程,运用多种理论建立并分析了氧化陶瓷膜生长模型及等效电路。模型及电路分析结果证明,陶瓷膜在形成时呈现先离散分布后连接成片的生长特点,成膜后Ti O_2陶瓷膜具有交流耦合电容效应。模型及等效电路分析与实验结果是吻合的,为改善TA2工业纯Ti微弧氧化工艺并提高陶瓷膜性能提供了实验与理论基础。
收录类别:EI;CSCD;SCOPUS
资源类型:期刊论文
原文链接:https://www.scopus.com/inward/record.uri?eid=2-s2.0-84870746660&partnerID=40&md5=62c548c684fce54931b32c39d3c12b5c
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