标题:提拉法制备铜单晶研究
作者:娄有信;王继扬;张怀金;李强
作者机构:[娄有信] 山东大学, 晶体材料国家重点实验室, 济南, 山东 250100, 中国.;[王继扬] 山东大学, 晶体材料国家重点实验室, 济南, 山东 250100, 中国.;[张怀金] 山东大 更多
通讯作者:Lou, YX(louyouxin@mail.sdu.edu.cn)
通讯作者地址:[Lou, Y.-X] State Key Laboratory of Crystal Materials, Shandong University, Jinan 250100, China;
来源:人工晶体学报
出版年:2011
卷:40
期:3
页码:563-566
关键词:铜单晶; 提拉法; 晶体生长; 晶体缺陷
摘要:采用提拉法生长出大尺寸(111)铜单晶,晶体尺寸为Ф (1219)mm*85 mm。通过XRD、金相显微分析讨论了铜单晶的晶体结构与生长缺陷,并采用双臂电桥测定(111)铜单晶的电阻率。结果表明:晶体具有(111)取向、强 度高,表明晶体取向良好;蚀坑呈典型三角锥形,位错密度在105106cm-2之间;在室温下,(111)铜单晶电阻率为1.289*10-8Omega ·m。
收录类别:EI;CSCD;SCOPUS
Scopus被引频次:1
资源类型:期刊论文
原文链接:https://www.scopus.com/inward/record.uri?eid=2-s2.0-79960429414&partnerID=40&md5=443dee75fc4866d1c380598cdd92b1ba
TOP