标题:GZO/Ag/GZO多层薄膜制备、结构与光电特性的研究
作者:杨田林;张之圣;宋淑梅;辛艳青;姜丽莉;李延辉;韩圣浩
作者机构:[杨田林] 天津大学,电子信息工程学院, 天津 300072, 中国.;[张之圣] 天津大学电子信息工程学院, 天津 300072, 中国.;[宋淑梅] 山东大学威海分校,空间科学与物理学 更多
通讯作者地址:[Yang, T.-L] School of Electronic and Information Engineering, Tianjin University, Tianjin 300072, China
来源:功能材料
出版年:2009
卷:40
期:11
页码:1767-1769
关键词:多层膜; 溅射方法; 透明导电膜
摘要:采用射频磁控溅射和离子束溅射联合设备在玻璃衬底上制备出了具有良好附着性、低电阻率和高透过率的GZO/Ag/GZO(ZnO掺杂Ga_2O_3简称G ZO)多层薄膜.X射线衍射谱表明GZO/Ag/GZO多层薄膜是多晶膜,GZO层具有ZnO的六角纤锌矿结构,最佳取向为(002)方向;Ag层是立方 结构,具有(111)取向.在GZO层厚度一定的情况下,研究了Ag层厚度的变化对多层膜结构以及光电特性的影响.研究发现,当Ag层厚度为10nm时, 3层膜的电阻率为9*10~(-5)Omega·cm,在可见光范围内平均透过率达到89.7%,薄膜对应的品质因子数值为3.4*10~(-2)Ome ga~(-1).
收录类别:EI;CSCD;SCOPUS
资源类型:期刊论文
原文链接:https://www.scopus.com/inward/record.uri?eid=2-s2.0-72449146771&partnerID=40&md5=6c39381718976fd990d4dc96f61677ad
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