标题:Zn/Al类水滑石及其插层材料的光催化性能
作者:袁冰;张新;侯万国
作者机构:[袁冰] 山东大学化学与化工学院, 济南, 山东 250100, 中国.;[侯万国] 山东大学化学与化工学院, 济南, 山东 250100, 中国.;[张新] 青岛科技大学化学与分子工程学院 更多
来源:应用化工
出版年:2012
卷:41
期:2
页码:195-197+201
关键词:类水滑石; 杂多酸; 插层; 光催化
摘要:以氨水为共沉淀剂,采用低温共沉淀法合成了不同摩尔比的Zn/Al类水滑石,并通过离子交换法在层板间引入磷钨酸根离子,经焙烧后得到具有光催化性能的催 化材料,研究插层前后类水滑石焙烧产物对甲基橙等染料的光催化降解性能。结果表明,CZn-Al-r催化剂具有优良的光催化降解有机染料的性能,通过调整 催化剂前驱体中金属元素的比例,甲基橙和亚甲基蓝的降解率可在2 h内接近100%。而经磷钨酸插层后,IZnAl-2的光催化降解速率较CZnAl-2有所下降。
收录类别:CSCD
资源类型:期刊论文
原文链接:http://kns.cnki.net/kns/detail/detail.aspx?FileName=SXHG201202004&DbName=CJFQ2012
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