标题:反应磁控溅射法制备ZnO/Al(O)/ZnO薄膜的光学和电学性能
作者:邢士龙; 闵光辉; 庞涛
作者机构:[邢士龙]山东大学材料科学与工程学院, 济南, 山东 250000, 中国;[庞涛]山东大学材料科学与工程学院, 济南, 山东 250000, 中国;[闵光辉]山东大学材料科学与工程学 更多
来源:机械工程材料
出版年:2018
卷:42
期:8
页码:48-52+82
关键词:反应磁控溅射; ZnO/Al(O)/ZnO薄膜; 氧掺杂; 氧气流量
摘要:采用反应磁控溅射法,通过控制中间层沉积时的氧气流量,在聚对苯二甲酸乙二醇酯基底上制备了ZnO/Al(O)/ZnO薄膜,研究了氧气流量对Al(O); 薄膜的微观形貌、表面粗糙度,以及对ZnO/Al(O)/ZnO薄膜光学和电学性能的影响。结果表明:随着氧气流量的增加,铝在ZnO薄膜表面由三维岛状; 生长转变为二维层片状生长,Al(O)薄膜表面粗糙度先增大后减小再增大,当氧气流量为6.7*10~(-3); cm~3·s~(-1)时最小;随着氧气流量的增加,ZnO/Al(O)/ZnO薄膜在较长波长范围内的透过率增大,方阻增大,霍尔迁移率和载流子浓度下; 降;综合考虑光学和电学性能,适宜的氧气流量为6.7*10~(-3) cm~3·s~(-1)。
收录类别:CSCD
资源类型:期刊论文
原文链接:http://kns.cnki.net/kns/detail/detail.aspx?FileName=GXGC201808012&DbName;=CJFQ2018
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