标题:卤离子界面扰动对X70/H_3PO_4阳极过程的影响
作者:李亮;王超;杨学耕;陈慎豪;
作者机构:[李亮]徐州师范大学化学系;[王超]徐州师范大学化学系;[杨学耕]山东大学化学与化工学院;[陈慎豪]山东大学化学与化工学院 更多
会议名称:第十三次全国电化学会议
来源:第十三次全国电化学会议论文摘要集(下集)
出版年:2005
关键词:卤离子;阳极过程;X70;H_3PO_4;PO;
摘要:金属的局部腐蚀行为通常发生是在含有侵蚀性高子,特别是含有卤离子的溶液中,便蚀性高子引起金属表面膜的破裂并加速腐蚀.本文研究了卤离子界面扰动对X70/H3PO4体系阳极过程的影响.将少量的卤离子滴加在电极表面附近,电极/溶液界面化学环境被改变,引起碳铜阳极溶解行为的改变.从不同卤离子引起的改变不同,分析不同卤高子所造成的不同腐蚀行为.实验中工作电极为碳钢X70(0.04%C, 1.46%Mn,0.24%Si,0.003%S,0.008%P,面积为1.0cm×0.70cm).辅助电极和参比电极分别为铂电极和饱和甘汞电极,文中所有电位均相对于饱和甘汞电极,实验在室温下进行.
资源类型:会议论文
原文链接:http://kns.cnki.net/kns/detail/detail.aspx?FileName=ZGHY200511003106&DbName=CPFD2006
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