标题:过饱和度对KDP晶体生长与光学性能的影响研究
作者:朱胜军;王圣来;丁建旭;刘光霞;王端良;刘琳;顾庆天;许心光
作者机构:[朱胜军] 山东大学, 晶体材料国家重点实验室, 济南, 山东 250100, 中国.;[王圣来] 山东大学, 晶体材料国家重点实验室, 济南, 山东 250100, 中国.;[丁建旭] 山东大 更多
通讯作者:Wang, SL(slwang67@sdu.edu.cn)
通讯作者地址:[Wang, S.-L] State Key Laboratory of Crystal Materials, Shandong University, Jinan 250100, China;
来源:人工晶体学报
出版年:2013
卷:42
期:10
页码:1973-1977
关键词:KDP晶体; 过饱和度; 稳定性; 透过率; 缺陷
摘要:在不同过饱和度的溶液中生长了KDP 晶体,对生长晶体的透过率,光散射和激光损伤阈值进行了表征。研究了不同过饱和度对KDP 晶体生长及光学性能的影响。实验表明:KDP 晶体可以在高过饱和度(sigma>3%)溶液中实现快速生长,生长速度可大于10 mm/d; 但随着溶液过饱和度的增加,KDP 晶体生长溶液的稳定性降低,晶体容易出现包藏、开裂和添晶等缺陷,晶体的光学性能也随之降低。
收录类别:EI;CSCD;SCOPUS
Scopus被引频次:3
资源类型:期刊论文
原文链接:https://www.scopus.com/inward/record.uri?eid=2-s2.0-84889239990&partnerID=40&md5=ffe63e6898211d2d7e2ccf59798cb791
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