标题:脉冲激光沉积羟基磷灰石薄膜的研究现状
作者:陈传忠;姚书山;包全台;张亮;雷廷权
作者机构:[陈传忠] 山东大学材料科学与工程学院, 济南, 山东 250061, 中国.;[姚书山] 山东大学材料科学与工程学院, 济南, 山东 250061, 中国.;[包全台] 山东大学材料科学与 更多
来源:激光技术
出版年:2004
卷:28
期:1
页码:74-77
关键词:脉冲激光沉积; 羟基磷灰石; 薄膜; 影响因素; 研究现状
摘要:羟基磷灰石(HA)具有优良的生物相容性,被用作植入体涂层材料广泛应用于整形外科、神经外科和牙科方面,利用脉冲激光沉积(PLD)技术制备的HA薄膜 具有高的结晶度和结合强度,受到人们的关注.综述了PLD技术制备HA薄膜的研究现状,系统地阐述了沉积过程中工艺参数对薄膜性质的影响,包括靶材的性质 、气氛、衬底温度、激光波长和能量密度、缓冲膜等,分析了薄膜的力学特性和生物活性,展望了该项技术的应用前景.
收录类别:CSCD
资源类型:期刊论文
原文链接:http://kns.cnki.net/kns/detail/detail.aspx?FileName=JGJS200401020&DbName=CJFQ2004
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