标题:基体偏压对真空脉冲过滤弧沉积TiN涂层表面粗糙度的影响
作者:吴凤芳;邓建新;颜培;
作者机构:[吴凤芳;邓建新;颜培]山东大学机械工程学院;[吴凤芳;邓建新;颜培]山东大学
来源:工具技术
出版年:2010
期:08
页码:16-19
DOI:10.3969/j.issn.1000-7008.2010.08.004
关键词:真空脉冲过滤弧;TiN涂层;表面粗糙度;基体偏压
摘要:采用离子束辅助真空脉冲过滤弧沉积技术,在硬质合金基体上制备了TiN涂层。对涂层的物理性能和机械性能进行了分析,利用XRD、SEM分别对不同基体偏压下沉积涂层的相组成和表面形貌进行了分析与观察,利用光学轮廓仪对涂层表面轮廓和表面粗糙度进行了测量,分析了基体偏压对TiN涂层表面粗糙度的影响。
资源类型:期刊论文
原文链接:http://kns.cnki.net/kns/detail/detail.aspx?FileName=GJJS201008006&DbName=CJFQ2010
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