标题:非平衡磁控溅射离子镀MoS2-Ti复合薄膜的结构及性能
作者:侯圣英;高蕊;孟祥娟;张晓玲;孙玉璞
作者机构:[侯圣英] 山东大学材料科学与工程学院, 济南, 山东 250061, 中国.;[张晓玲] 山东大学材料科学与工程学院, 济南, 山东 250061, 中国.;[孙玉璞] 山东大学材料科学与 更多
来源:山东大学学报. 工学版
出版年:2005
卷:35
期:6
页码:20-23
关键词:二硫化钼; 钛; 复合薄膜; 摩擦性能
摘要:用非平衡磁控溅射离子镀法沉积了钛含量不同的MOS2-Ti复合薄膜,电子探针分析表明共沉积钛可以降低MOS2薄膜中氧杂质的含量,XRD分析显示薄膜 具有类似非晶的结构.划痕试验结果显示薄膜的临界栽荷都大于100N,球盘磨损试验结果显示MOS2-Ti复合薄膜比MOS2薄膜耐磨性好,并且摩擦系数 低于0.07。
收录类别:CSCD
资源类型:期刊论文
原文链接:http://kns.cnki.net/kns/detail/detail.aspx?FileName=SDGY200506004&DbName=CJFQ2005
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