标题:退火处理对掺锑Zn-Sn-O薄膜的特性的影响
作者:黄树来;姜永超;盖凌云;徐进栋;王雨生;马瑾
作者机构:[黄树来] 莱阳农学院理学院, 莱阳, 山东 265200, 中国.;[姜永超] 莱阳农学院理学院, 莱阳, 山东 265200, 中国.;[徐进栋] 莱阳农学院理学院, 莱阳, 山东 265200, 更多
通讯作者:Huang, S.-L.
通讯作者地址:[Huang, S.-L] Physics Department, Laiyang Agricultural College, Laiyang 265200, China
来源:功能材料
出版年:2006
卷:37
期:2
页码:219-221
关键词:磁控射频溅射; 透明导电膜
摘要:首次在低温下采用磁控射频溅射技术在玻璃衬底上制备出具有多晶结构的掺锑锌-锡-氧(Zn-Sn-O:Sb)透明导电膜。研究了在通氧气氛制备薄膜的特性 以及退火处理对制备薄膜结构和光电性能的影响。经真空退火后,氩氧混合气体溅射制备的Zn-Sn-O:Sb透明导电膜的最小电阻率为4*10^-2Ome ga·cm,相应载流子浓度和霍尔迁移率分别为2.1*10^19cm^-3,8cm^2·V^-1·s^-1。薄膜的可见光平均透过率达到了92.4% 。薄膜具有较高的热稳定性和化学稳定性,对玻璃衬底有良好的附着性。
收录类别:EI;CSCD;SCOPUS
资源类型:期刊论文
原文链接:https://www.scopus.com/inward/record.uri?eid=2-s2.0-33646344261&partnerID=40&md5=243c8ccd0a8eb9f85049647167476be4
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